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          CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
          CVD真空氣相鍍膜
          CVD真空氣相沉積技術(shù)工藝原理

                 真空化學(xué)氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱:真空氣相鍍膜,納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構(gòu)成薄膜元素的長鏈性高分子材料(派瑞林Parylene等)、單質(zhì)氣體經(jīng)過昇華、熱解後進入放置產(chǎn)品的真空反應(yīng)室,借助空間氣相化學(xué)反應(yīng)並在產(chǎn)品表面上沉積生成的0.1-100um薄膜塗層的工藝技術(shù)。薄膜塗層厚度均勻,緻密無針孔、透明無應(yīng)力、不含助劑、不損傷產(chǎn)品、有優(yōu)異的電絕緣性和防護性,是當代最有效的防潮、防黴、防腐、防鹽霧塗層材料。     

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          CVD派瑞林真空氣相鍍膜流程

          隨著時代的發(fā)展,電子產(chǎn)品技術(shù)的不斷革新。高新技術(shù)與智能化的發(fā)展,精密的電子設(shè)備元件需要適應(yīng)各種惡劣的工作環(huán)境,達到工業(yè)對其更高的要求:高可靠,小型化,抗干擾等等。因此,電子零部件的環(huán)境適應(yīng)性和防護力就成了重中之重。

          LPMS為適應(yīng)現(xiàn)有市場需求, 通過開發(fā)創(chuàng)新,成功的將派瑞林鍍膜技術(shù)運用到電子產(chǎn)品行業(yè)。我們在材料、工藝和設(shè)備方面的專有技術(shù)使我們能夠為客戶帶來高質(zhì)量的超薄與納米級保形塗層,其成就在行業(yè)得到認可。

          CVD真空氣相沉積工藝特點
                       
          • 生物相容性(用於各種植入物和其他醫(yī)療器械),符合FDA(ClassVI). 符合美軍標MIL I-46058C。


          • 納米塗層滲透力強,360度無死角,可滲入SMD器件底部,全方位覆蓋PCB和電子元件器,塗層完整、連續(xù)、無針孔、厚度均勻。


          • 具有高介電強度和低介電常數(shù),超薄的絕緣層,能耐高電壓。 


          • 室溫下生成納米鍍膜層,對塗覆敏感部件沒有熱應(yīng)力。 


          • 疏水薄膜,表面能量低,良好的幹膜潤滑性。 

                       
          • 高度共形 - 可在尖角上覆膜並穿透小毛孔,不會形成彎月面,也不會聚集或遮擋精細的圖形。


          • 塗層化學(xué)惰性(無反應(yīng)性),具有很高的耐化學(xué)性(酸堿鹽,溶劑)及極端的耐高低溫性(-60°C至200°C)

           

          • 透氣性非常低,不含針孔,防潮防水性(可達IP68)。


          • 抗輻射,可用於航空航太及γ射線和電子束滅菌。 

           

          • 光學(xué)透明,無色。可用於上光學(xué)元件和照明無件。

          塗層可以承受極端高低溫
          -60℃ 0℃ 60℃ 120℃ 180℃
          -60~200℃
          塗層可以承受極端高低溫(-60°C至200°C)
          CVD真空氣相沉積與三防漆工藝對比

          CVD(派瑞林 paerylene真空鍍膜)真空氣相沉積工藝鍍膜後產(chǎn)品表面化學(xué)純度高,鍍膜均勻,無小孔,無氣泡,不會脫落,無熱應(yīng)力。

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          我們能為您做什麼?

          針對客戶具體專案,進行專案評估、提供專業(yè)可行的CVD(派瑞林 paerylene真空鍍膜 )真空氣相沉積工藝解決方案,以及納米塗層加工服務(wù)(打樣測試或大批量加工生產(chǎn))。

          根據(jù)客戶技術(shù)要求提供CVD派瑞林 paerylene真空鍍膜 )真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體,並給於專業(yè)的技術(shù)指導(dǎo);

          為有需要的客戶提供有針對性設(shè)計的CVD派瑞林 paerylene真空鍍膜 )真空氣相沉積工藝設(shè)備(真空氣相沉積鍍膜機、真空脫氣爐等相關(guān)設(shè)備)。

          CVD真空氣相沉積工藝應(yīng)用

                 CVD(派瑞林Parylene真空鍍膜)廣泛用於航空航天、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領(lǐng)域。派瑞林真空鍍膜後的電子產(chǎn)品具有極高的絕緣強度和耐高低溫(-60至200度)、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、防銹、透明、防水(最高可達IP68)、抗老化、生物相容性等作用。

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          CVD真空氣相設(shè)備
          我們專業(yè)設(shè)計、製造和銷售各種類型和規(guī)格的CVD真空鍍模設(shè)備,如真空氣相沉積塗層機(派瑞林鍍膜機)、真空脫氣爐等。
          CVD真空氣相沉積產(chǎn)品代加工

               LPMS擁用標準的真空氣相鍍膜車間和10多臺CVD真空氣相鍍膜設(shè)備,可為客戶提供CVD真空氣相沉積納米級塗層的打樣測試或大批量生產(chǎn)代加工服務(wù)。同時也可提供包括產(chǎn)品的從SMT表面黏著、DIP插件、無鉛制程、焊接加工、低壓注塑/點膠、真空氣相鍍膜、產(chǎn)品測試、成品包裝的全程代工代料服務(wù),亦也可為客戶提供新產(chǎn)品開發(fā)服務(wù)。

          真空氣相沉積材料

                 CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名:派瑞林、聚對二甲苯、英文名:Parylene),它可在真空下氣相沉積,活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部、底部,周圍形成無針孔,並厚度均勻的透明絕緣塗層,給元件提供了一個完整的優(yōu)質(zhì)防護塗層,抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害,因為所使用的不是液體,所以塗敷過程中不會聚集,橋接式形成彎月面。

                Parylene派瑞林高分子材料根據(jù)分子結(jié)構(gòu)可分為: N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據(jù)客戶技術(shù)要求與產(chǎn)品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料,並給於專業(yè)的技術(shù)指導(dǎo)。

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          派瑞林牌號

          成膜特性

          CAT

          N

          CAT

          C

          CAT

          D

          CAT

          F(VT4)

          CAT

          AF4(HT)

          密度(gm/cc)

          1.1

          1.3

          1.41

          1.55

          1.5

          介電常數(shù)(1Mhz)

          2.6

          2.9

          2.8

          2.3

          2.2

          介電強度(V/Mil)

          7000

          5600

          5500

          5000

          7000

          最低持續(xù)工作溫度(空氣中)

          -60°C

          -60°C

          -60°C

          -60°C

          -60°C

          最高持續(xù)工作溫度(空氣中)

          60°C

          80°C

          110°C

          200°C

          300°C

          摩擦係數(shù)-動態(tài)

          0.25

          0.29

          0.38

          0.39

          0.16

          線性膨脹係數(shù)(ppm at 25°C)

          69

          35

          38

          45

          34

          吸水性(24H後)

          <% 0.1

          <% 0.1

          <% 0.1

          <% 0.1

          <% 0.1

          水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

          0.6

          0.08-0.1

          0.1

          0.25-0.32

          0.2

          氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

          16

          3

          12.0-13.5

          16.8

          25.3

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